HCS 霍爾效應測量系統|載子濃度、遷移率與電性參數全功能分析
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HCS 霍爾效應測量系統|載子濃度、遷移率與電性參數全功能分析
霍爾效應測量系統
L79/HCS系統可用於半導體組件性能表徵,包括:遷移率,電阻率,載流子濃度和霍爾常數。
基本型提供不同形狀和溫度條件下所需的樣品支架。選配低溫(液氮)附件結合高溫爐(最高溫度可達700°C)可保證所有應用領域環境條件下的測試。永磁體和電磁鐵可提供高達數個特斯拉強度的固定或者可變磁場。
基於測量軟件可顯示的視窗內容包括I-V 和 I-R 數據圖.
系統可測試多種材料包括Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N 型或P型均可測量), 金屬膜, 氧化物等. 樣品測試時便可完成系統功能演示

特點
• 載流子濃度
• 電阻率
• 遷移率
• 電導率
• α (水平電阻值/垂直電阻值)
• 霍爾常數
• 磁致電阻

 

Standards for Electrical Properties

STANDARD TITLE
ASTM F76-08 Standard Test Methods for Measuring Resistivity and Hall Coefficient and Determining Hall Mobility in Single-Crystal Semiconductors


HCS 霍爾效應測量系統系列型號比較表

功能/規格項目 HCS 1 HCS 10 HCS 100
樣品導電範圍 高導電樣品 中等導電樣品 低導電樣品(高阻樣品)
載子濃度範圍 ~1018 cm⁻³ ~1017 cm⁻³ ~1014 cm⁻³
遷移率解析度 一般解析度 中高解析度 極高解析度
可測參數 霍爾係數、載子濃度、電阻率、遷移率
磁場控制 ±0.5 T(手動) ±1 T(可程式控制) ±1 T(全自動控制)
溫度範圍(標準) 室溫(RT) RT ~ 500°C(可選配) LN₂ ~ 800°C(液氮冷卻 + 高溫爐)
樣品尺寸支援 標準方片、圓片 多尺寸模組化樣品架 多尺寸 + 薄膜/奈米結構(選配)
應用對象 教學用途、基本電性測量 研發單位、材料實驗室 先進材料分析、半導體與熱電材料精密評估

影片:
https://www.youtube.com/watch?v=7A6JLY28m2Q



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